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中稱可製8奈米晶片被打臉! 乾式DUV精度只有65奈米 是ASML18年前水準 (5)... 8nm，高興宣傳「可生產 8 奈米晶片」，突破美國封鎖，其實是錯誤的。中共於 9 月初公佈「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄」，列出全新自製 光刻機，解析度為 ≤65nm，「套刻精度」 ≤8nm。《芯智訊》解釋說，光 |
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中國晶片研發技術突破至 7 奈米？專家不認同 (17)...紫外光（EUV）設備專利。有專家認為這樣的說法有待商榷，且生產良率才是關鍵。中國工信部近日公布重大技術裝備推廣應用指導目錄，其中兩台曝光機被外界解讀為中國已取得重大技術突破，可生產8奈米及以下晶片的說法甚 |
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陸研發出自製DUV設備 可生產8奈米及以下晶片...部近日宣布，研發出首台國產深紫外光曝光機(DUV)，可生產8奈米及以下晶片。據中國工信部「首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)」的通知顯示，「氟化氬光刻機」(DUV曝光機)設備的核心技術指標是「晶圓直徑300 |
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技術突破 陸成功自製DUV曝光機...求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。「首台（套）重大技術裝備」是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的 |