GAIS - 即時新聞

...業衛星觀測網絡等幾乎所有目標。南華報導指出，當前仍有一些目標尚未實現，包括半導體製造中使用的先進微影技術、洲際客機和衛星通訊技術網絡等。中國大陸政府今年提出另一個富有雄心的「新質生產力」計劃，被認為

...先進製程，預計下半年2奈米製程進入試量產，達到環保與品質雙重效益。台積電指出，低溫聚醯亞胺為半導體微影及封裝製程的關鍵材料，因其高硬度與抗化性可提供良好絕緣性能及穩定度，保護晶圓免受外界環境影響。過往

...鏈合作夥伴關係，使紐約州成為全球半導體製造中心一部分，園區另將興建北美首座公有先進高孔徑極紫外光微影技術中心(High NA EUV Lithography Center) ，支持紐約州長期高科技與經濟發展。紐約州半導體產業生態系:目前擁有156家

...強勁將是主要推動力。在技術合作方面，三星正進一步加強與蔡司的合作，蔡司擁有超過2000個與極紫外光(EUV)微影設備相關的關鍵技術專利，也是極紫外光EUV晶片製造商艾司摩爾(ASML)的唯一光學系統供應商。三星透露，與蔡司

...資48億韓元（350萬美元）在南韓設立研發中心。蔡司具備獨特的微影和光罩系統技術，可用於先進晶片的製造設備，並擁有超過2,000個與極紫外光（EUV）微影設備相關的關鍵技術專利。三星表示，與蔡司合作將有助改善下一代

...台灣發展Micro LED掌握領先韓國及大陸的先機。帆宣在Micro LED設備市場也不缺席，推出自製的塗佈顯影系列及微影壓印系列的設備機台，已被Micro LED大廠採用。全方位布局Micro LED產線的東捷，已推出雷射巨轉結合設備、點燈整

...仍領先三星和英特爾一到兩代晶片。台積電之所以領先，因為它先於三星和英特爾採用了ASML的極紫外線 (EUV) 微影系統，該系統可以將最小的電路圖案光學蝕刻到矽晶圓上。台積電最初不願意購買這些昂貴的系統，每個系統的

...。家碩成立於2016年7月18日，主要提供半導體設備及相關零組件的設計、製造、銷及維修服務，專注於半導體微影製程中包括清洗、交換、儲存、管理等光罩傳載自動化設備，其中搭配母公司家登（3680）的光罩盒提供存放、連

...2027 年。英特爾日前也宣布完成成業界首台商用高數值孔徑極紫外光微影設備（High NA EUV）組裝。由微影技術大廠艾司摩爾（ASML）TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV 微影設備，開始多項校準，2027 年啟用、生產 Intel 14A 製程。英特爾強調